欲留模具﹑沖棒的公差.鍍鈦膜厚為3um~4um(雙邊)PVD納米鍍鈦通常稱(chēng)謂：納米鍍鈦，納米鍍鈦廠(chǎng)，納米鍍鈦，鍍膜，真空納米鍍鈦，氮化鈦，納米鍍鈦加工，PVD，表面處理，鈦板，表面處理納米鍍鈦加工，真空鍍鈦加工，表面處理，PVD涂層，模具納米鍍鈦，納米涂層，真空納米電鍍，零件納米鍍鈦，精密模具納米鍍鈦，沖壓模具納米鍍鈦，壓鑄模具納米鍍鉻，耐磨涂層，超硬納米鍍鈦，鍍鈦涂層，離子鍍鈦，納米涂層，沖棒納米鍍鈦，五金模具納米鍍鈦，塑膠模納米鍍鈦，納米鍍鈦，金屬納米鍍鈦表面處理等.

PVD（PhysicalVaporDepsition）即物理氣相沉積，是當前國際上廣泛應用的表面處理技術(shù)。其工作原理就是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí)把蒸發(fā)物或其反應物沉積在基底上。它具有沉積速度快和表面清潔的特點(diǎn)，特別具有膜層附著(zhù)力強、繞射性好、可鍍材料廣泛等特點(diǎn)。

第二：靶毒的影響因素影響靶中的因素主要是反應氣體和濺射氣體的比例，反應氣體過(guò)量就會(huì )導致靶*。反應濺射工藝進(jìn)行過(guò)程中靶表面濺射溝道區域內出現被反應生成物覆蓋或反應生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長(cháng)的過(guò)程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率，化合物覆蓋面積增加。在一定功率的情況下，參與化合物生成的反應氣體量增加，化合物生成率增加。如果反應氣體量增加過(guò)度，化合物覆蓋面積增加，如果不能及時(shí)調整反應氣體流量，化合物覆蓋面積增加的速率得不到抑制，濺射溝道將進(jìn)一步被化合物覆蓋，當濺射靶被化合物全部覆蓋的時(shí)候，靶完全*，在靶面上沉積一層化合金屬膜。使其很難被再次反應。